光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準－第2條

本標準專有名詞及符號定義如下：
一、光電材料及元件製造業(以下簡稱光電業)：
指從事液晶面板製造及其相關材料、元件或產品製造者。
但僅從事二極體元件製造者不在此限。
二、揮發性有機物(VolatileOrganicCompounds，VOCs)：
指含有機化合物之空氣污染物總稱。
但不包含甲烷、一氧化碳、二氧化碳、碳酸、碳化物、碳酸鹽、碳酸銨等化合物。
三、單位小時許可排放量：
指單一公私場所內所有製程，其固定污染源操作許可證所登載單一空氣污染物之年許可排放總量，依核定之年操作時數換算為單位小時排放量稱之；單位為公斤／小時。
四、密閉排氣系統(ClosedVentSystem)：
指可將製程設備產生之空氣污染物有效捕集並輸送至污染防制設備，使傳送之氣體不直接與大氣接觸之系統。
該系統包括管線及連接裝置。
五、單位小時管道排放量(以下簡稱管道排放量)：
指單一排放管道之空氣污染物排放量；單位為公斤／小時。
六、污染防制設備處理效率(以下簡稱處理效率)：
指空氣污染物經污染防制設備處理後之排放量削減百分比，依同步檢測污染防制設備前端及後端廢氣濃度及排放量進行計算，其計算公式如下：
處理效率＝(E-E0)／E×100％；單位為％。
E：
經密閉排氣系統進入污染防制設備前之空氣污染物單位小時排放量；單位為公斤／小時。
E0：
經污染防制設備後逕排大氣之空氣污染物單位小時排放量；單位為公斤／小時。
七、新設製程：
指本標準發布施行日起設立之製程。
八、既存製程：
指本標準發布施行日前已完成建造、建造中、完成工程招標程序或未經招標程序已完成工程發包簽約之製程。
但既存製程符合固定污染源設置與操作許可證管理辦法第三條規定之變更條件者，以新設製程論。
九、使用量：
指以溶劑、樹脂或其他形式使用於製程之含揮發性有機物、氫氟酸或鹽酸原物料使用量。
十、輸出量：
指隨廢溶劑、廢棄物、廢水、產品攜帶或其他形式輸出製程之揮發性有機物、氫氟酸或鹽酸輸出量。
十一、每季有效監測時數百分率：
指監測設施每季之有效監測時數比率，其計算公式如下：
T–(Du＋Dm)P＝───────×100％T–tP：
每季有效監測時數百分率；單位為％。
T：
固定污染源每季操作時間；單位為小時。
t：
監測設施汰換時間；單位為小時。
Du：
監測設施無效數據時間；單位為小時。
Dm：
監測設施遺失數據時間；單位為小時。